網友評分:
5.7分
BAO Mask Avenger是一款非常實用的AE高級遮罩腳本,有了這款腳本,我們就可以直接在AE中控制和編輯Mask路徑和遮罩的頂點,同時在三維空間制作出路徑動畫。
拉姆預覽保護。以前版本的最大問題是Ram預覽無效
通過插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系統避免了這一點。
3D面具。 Mask Avenger現在可以在3D中控制蒙版,而無需使用空圖層和表達式。
然后更快地計算掩模,并簡化表達式寫入。
背景烘焙。當需要修改蒙版時,蒙版復仇者會立即對其進行轉換
當前時間,并在后臺烘烤工作區域的其余部分。這意味著您可以繼續工作
而面具復仇者正在忙著烘焙。這取代了«Dynamic»和«bake»模式。
更好地塑造層兼容性。與“動態”模式相關的錯誤隨著新烘焙而消失系統。
工作區和圖層的持續時間不再影響Mask Avenger的計算速度。當然,
烘焙100,000個關鍵幀需要超過10個,但新的烘焙系統允許您繼續工作
而它正在烘烤。
不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger現在使用AE自己的掩蔽功能,運行速度更快。
面具預覽。 Mask avenger 2.0有一個預覽系統,可以動態地顯示它們之前的變化
適用于面具。這可以避免在表達式,其他圖層或相機修改蒙版時出現延遲。
標簽: AE插件