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您的位置: 首頁 > 圖形圖像 > 圖像其它 > BAO Mask Avenger(AE高級遮罩腳本) V2.7.1 官方版

  BAO Mask Avenger是一款非常實用的AE高級遮罩腳本,有了這款腳本,我們就可以直接在AE中控制和編輯Mask路徑和遮罩的頂點,同時在三維空間制作出路徑動畫。

BAO Mask Avenger

【功能特色】

  拉姆預覽保護。以前版本的最大問題是Ram預覽無效

  通過插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系統避免了這一點。

  3D面具。 Mask Avenger現在可以在3D中控制蒙版,而無需使用空圖層和表達式。

  然后更快地計算掩模,并簡化表達式寫入。

  背景烘焙。當需要修改蒙版時,蒙版復仇者會立即對其進行轉換

  當前時間,并在后臺烘烤工作區域的其余部分。這意味著您可以繼續工作

  而面具復仇者正在忙著烘焙。這取代了«Dynamic»和«bake»模式。

  更好地塑造層兼容性。與“動態”模式相關的錯誤隨著新烘焙而消失系統。

  工作區和圖層的持續時間不再影響Mask Avenger的計算速度。當然,

  烘焙100,000個關鍵幀需要超過10個,但新的烘焙系統允許您繼續工作

  而它正在烘烤。

  不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger現在使用AE自己的掩蔽功能,運行速度更快。

  面具預覽。 Mask avenger 2.0有一個預覽系統,可以動態地顯示它們之前的變化

  適用于面具。這可以避免在表達式,其他圖層或相機修改蒙版時出現延遲。

軟件特別說明

標簽: AE插件

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